在等離子清洗過程中，等離子體與材料表面發(fā)生化學反應后，會生成氣體或揮發(fā)性物質，這些物質可以通過真空系統(tǒng)及中和器直接排放到大氣中，不會對環(huán)境和人體健康造成影響。同時，等離子清洗還可以在不破壞材料表面的情況下，實現高效、快速的清洗。
等離子清洗機和傳統(tǒng)濕法清洗的主要區(qū)別體現在以下幾個方面：
1、清洗過程控制：等離子清洗時間對工藝較為靈敏，而傳統(tǒng)濕法清洗通常受限于清洗液的性質。等離子清洗工藝過程更容易控制，而濕法清洗的清洗效果受清洗液的濃度、溫度、時間等因素影響。
2、清洗效果：等離子清洗在去除油污及氧化物等工藝時，只需要一次清洗，基本無殘留物。相比之下，濕法化學清洗可能需要進一步去除及處理或多次清洗，且清洗后可能存在一定的殘留物。
3、環(huán)保性：濕法化學清洗使用的有機溶劑對人體有害，且清洗后的殘余物可能對環(huán)境造成污染。而等離子清洗反應副產物為氣體，通過真空系統(tǒng)及中和器可直接排放到大氣中，對環(huán)境和人體健康的影響較小。
4、適用性：等離子清洗可以處理各種材質，包括金屬、半導體、氧化物、高分子材料等，特別適合不耐熱以及不耐溶劑的材質。而濕法化學清洗在材質方面存在一定的限制。
5、干燥處理：濕法化學清洗后產品往往都是濕的，需要干燥處理才能進入下一道工序。而等離子清洗后的產品是干燥的，可以減少一道工序，縮短生產時間。
6、效率與適用性：濕法化學清洗通常效率較低，且可能存在無法全面清洗不規(guī)則形狀產品的問題。而等離子清洗不僅效率高，而且可以全方位清洗各種形狀的產品。此外，等離子清洗還可以處理各種材質，無論是金屬、半導體、氧化物還是高分子材料，都適用。